一、真空箱式气氛炉用途

真空箱式气氛炉适用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等。

二、真空箱式气氛炉特点

1.炉体采用双层炉壳结构，双层炉壳之间装有风机，可以快速升降温，炉壳表面温度低。

2.炉门为侧开方式，从左往右

3.炉膛材料采用优质的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热元件采用硅钼棒。

4.电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意设置。

5.外观优美，操作方便，产品寿命长。

三、真空箱式气氛炉参数

注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！

一、真空箱式气氛炉用途

真空箱式气氛炉适用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等。

二、真空箱式气氛炉特点

1.炉体采用双层炉壳结构，双层炉壳之间装有风机，可以快速升降温，炉壳表面温度低。

2.炉门为侧开方式，从左往右

3.炉膛材料采用优质的氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热元件采用硅钼棒。

4.电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意设置。

5.外观优美，操作方便，产品寿命长。

三、真空箱式气氛炉参数

注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！